濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。其中靶材就是做芯片的重要材料。Z知名的就是國外芯片——英偉達(dá)，一直屬于行業(yè)龍頭老大。但是隨著中國的實(shí)力日漸強(qiáng)度，我們的華為已經(jīng)自主的研發(fā)生產(chǎn)出與之抗衡的電子芯片。徹底打破了一直采用國外技術(shù)的這一現(xiàn)象。

像超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域是濺射靶材Z高端的應(yīng)用，其對(duì)濺射靶材金屬純度的要求Z高，通常要求達(dá)到99.9995%(5N5)以上，平板顯示器、太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，分別要求達(dá)到99.999%(5N)、99.995%(4N5)以上。達(dá)99.999(而一般金屬也就99.8的純度)。

濺射靶材這個(gè)行業(yè)具有技術(shù)密集和資本密集雙重特性、且行業(yè)認(rèn)證壁壘高(認(rèn)證過程一般需要2-3年)，長(zhǎng)期以來全球?yàn)R射靶材研制和生產(chǎn)被日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)、愛發(fā)科等美日少數(shù)幾家公司所壟斷。

目前，高純?yōu)R射靶材主要應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，其中，半導(dǎo)體芯片占據(jù)了較大的市場(chǎng)份額。意味著今后幾乎所有的科技產(chǎn)品都要用到濺射靶材

未來隨著智能手機(jī)、平板電腦、汽車電子等終端消費(fèi)領(lǐng)域?qū)Π雽?dǎo)體需求的持續(xù)增長(zhǎng)，將進(jìn)一步提升半導(dǎo)體、平板顯示器等市場(chǎng)容量。尤其是平板顯示方面，中國已成為繼日本和韓國之后全球第三大平板顯示產(chǎn)業(yè)大國，市場(chǎng)占有率超過17%，隨著京東方重慶8.5代線、華星光電深圳8.5代線二期和中電熊貓南京8.5代線的相繼建成投產(chǎn)，以及2014年投產(chǎn)的諸多產(chǎn)線陸續(xù)度過爬坡期進(jìn)入量產(chǎn)期平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模仍有望實(shí)現(xiàn)快速增長(zhǎng)，而液晶顯示用濺射靶材尺寸普遍較大，將為濺射靶材生產(chǎn)廠商提供更加廣闊的發(fā)展空間。